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日本Nano System Solutions DL-1000產(chǎn)業(yè)級高速高分辨無掩膜直寫光刻系統(tǒng)： 傳統(tǒng)無掩模直寫光刻工藝在線寬和加工效率上面無法兼容，特征尺寸下僅能達到100mm2/min以下甚至更低的加工效率，而DL-1000基于DMD直寫光刻工藝, 在保證高分辨及可靠性下很大提到作業(yè)產(chǎn)率, 大大減少了半導體器件試作的周期時間, 加工200mm*200mm區(qū)域只需不到5分鐘左右，是傳統(tǒng)無掩模直寫光刻加工效率的數(shù)百倍！此系統(tǒng)可支持12英寸晶圓, 完全符合大面積高產(chǎn)率的預(yù)期！ 使用稱為高性能DMD顯示元件, 通過與舞臺完全同步的ON/OFF控制，在晶片上直接繪制圖案。因為不需要試制照片掩模所花的時間和費用，所以可以提高半導體器件的試制效率！