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Product Center
      


      



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      Microtech無(wú)掩模直寫(xiě)光刻系統(tǒng)
      




      產(chǎn)品詳情
      

      

      
	  

      

      
	 Microtech是1982年美國(guó)MIT林肯國(guó)家實(shí)驗(yàn)室高科技孵化企業(yè), 也是全球最早商業(yè)化激光直寫(xiě)光刻系統(tǒng)品牌之一, 現(xiàn)階段其主打LW405系列德國(guó)SUSS參與合作, 且已發(fā)展細(xì)分為科研級(jí), 產(chǎn)業(yè)級(jí), 半導(dǎo)體千束級(jí), 可適用于研發(fā), 小規(guī)模量產(chǎn), 以及大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化, 除了高性能外, 其可靠性和多功能性也得到業(yè)界的一致認(rèn)可和好評(píng).  為了滿足更多用戶特殊需求, Microtech還提供定制化服務(wù), 如定制化平行多讀寫(xiě)頭, 最大可到800mm加工面積, 產(chǎn)業(yè)級(jí)加工效率, 偏振極化調(diào)試等; 
	
      
		 Microtech LW405系列全球典型的客戶有: 英國(guó)曼徹斯特大學(xué)石墨烯研究中心(兩臺(tái)), 英國(guó)劍橋大學(xué)石墨烯中心(兩臺(tái)), MIT麻省理工林肯實(shí)驗(yàn)室, 新加坡國(guó)立大學(xué)(兩臺(tái)), ESA歐洲空間研究與技術(shù)中心, NASA美國(guó)國(guó)家航空航天局等; 典型應(yīng)用包括掩膜板制作, 衍射光學(xué)器件, 多層器件套刻, 微電子MEMS/NEMS/傳感器, 微流體器件, 光波管, MICs微波集成電路, 石墨烯器件, 太陽(yáng)能光電板, 灰階3D光刻, 表面光化學(xué)等. 
	
      
	
      
		 現(xiàn)階段Microtech產(chǎn)品已遍布國(guó)內(nèi)各大知名院所, 如上海交通大學(xué)微納米加工平臺(tái), 清華大學(xué)精儀系, 北京大學(xué)微納米加工平臺(tái), 廈門大學(xué)微納米加工平臺(tái)，中科院重慶綠色智能所等, 且除了常見(jiàn)的405nm和375nm及365nm外, 我們也是業(yè)內(nèi)獨(dú)特可配置三光源的無(wú)掩模光刻機(jī), 增配的213nm DUV光源可很好的適用于PMMA的直接微納加工(其他廠家均無(wú)此功能). 
	
      
       

      

      
	 

      

      
	 

      

      
	 

      

      
	 

      

      
	
      
		
      
	
      

      

      
	

      

      
	 

      

      
	
      

      

      
	 

      

      
	
      

      

      
	傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。激光直寫(xiě)光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩模板的方法，克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩模板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦軟件控制，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案，無(wú)需掩膜工序。絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時(shí)間都浪費(fèi)在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費(fèi)用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工細(xì)小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的Microtech加工大面積部分。Microtech先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)機(jī)制可以使兩部工序完美結(jié)合。因此Microtech也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。 

      

      
	
      

      


      


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