瑞士Swiss Cluster公司介紹：
Swiss Cluster起源于EMPA瑞士聯(lián)邦材料科學與技術(shù)實驗室孵化的高科技公司, 通過特有技術(shù)開發(fā)出ALD和PVD原位多層復合薄膜沉積系統(tǒng), 并取得了非凡的成就和成熟的應用案例; 其位于瑞士EMPA的工廠集合了具有薄膜沉積背景的專業(yè)人士, 包括物理學、機械工程、軟件工程、材料科學、自動化等, 優(yōu)秀專業(yè)團隊加之核心技術(shù)和瑞士高品質(zhì)優(yōu)良工藝保障了給客戶提供行業(yè)內(nèi)下一代尖端的先進的薄膜沉積設備;
Swiss Cluster憑借其特有的原位集成ALD+PVD+PECVD工藝可以將傳統(tǒng)ALD應用擴展到更深層次和更高維度, 使科學家輕松創(chuàng)造具有新結(jié)構(gòu)和新性能的創(chuàng)新材料, 原位復合超多層納米薄膜等.傳統(tǒng)復合薄膜需不同腔室真空互聯(lián), 流程復雜且成本高昂, 因樣品需在不同腔室移動因此工藝繁瑣操作耗時且無法原位制備多層復合薄膜; 可集成功能模塊包括Sputter磁控濺射模塊, HiPIMS高功率脈沖磁控模塊, E-Beam電子束蒸發(fā)模塊, PLD脈沖激光沉積模塊, 熱蒸發(fā)模塊, 低溫有機蒸發(fā)模塊, Ion Beam 離子束清洗刻蝕模塊, 可配1到4套等離子增強模塊等；
而Swiss Cluster突破常規(guī), 無需多個腔室和輸送臂等昂貴互聯(lián)部件,極大減少互聯(lián)設備成本和占地面積, 其腔體垂直布置且中部巧妙設計一個自動化閘閥從而實現(xiàn)在無需破壞真空時將ALD和PVD兩工藝無縫原位組合, 且不同工藝切換時樣品一直保持原位固定, 結(jié)合實時原位計量學可以輕松高效低成本實現(xiàn)超高質(zhì)量數(shù)十到數(shù)百個ALD/PVD/PECVD多層復合納米薄膜;
ALD+PVD原位復合薄膜沉積技術(shù)介紹：
ALD/PVD原位復合多層納米薄膜制備應用案例---1：
ALD/PVD原位復合多層納米薄膜應用案例---2：
ALD/PVD原位復合多層納米薄膜應用案例---3：
ALD/PVD原位復合多層納米薄膜制備應用案例---4：
產(chǎn)品型號介紹：
可選具有功能優(yōu)勢的配件：
